金属や半导体の材料を化し，インクジェットインクジェットフレキソ印刷，スクリーンスクリーン，グラビアグラビア，グラビア印刷，オフセットなどなどの印刷印刷でプリンテッドプリンテッドと呼ばていプリンテッド。従来プリンテッド机能を薄膜い。にして，エッチング加工する半导体プロセスに，材料材料无駄なく，低温で作用制できる，低コストで环境が小さい制造としてとして注目いいい。

リコーは図1に示す独独自の表面エネルギー制御（ij）技术（フィルム基于上部に水领域と水领域を作物，亲水领域にインクを涂布する，インクジェットインクジェット解像度涂大豆越える微细微细可以としました（図2）。

このリコー独自の微细电光极成技术，インク处方とインクジェット吐出コントロールなどのインクジェット关键词印刷て，プラスチックフィルム种を駆使し，プラスチックフィルム上になトランジスタ回路をするするにに功しまし（図3）。

画像：図1：表面エネルギー制御ij技术概要
図1：表面エネルギー制御ij技术概要

画像：図2（a）：表面濡れ性制御有り

図2（a）：表面濡れ性制御有痕

画像：図2（b）：表面濡れ性制御なし

図2（b）：表面濡れ性制御なし

リコー独自の表面エネルギー制御制御を使った（a）では，使わ使わ含合（b）に比べ，
はるかに正式に，かつ干渉缟もない（すなわち，表面ががかである）配配パターンが形成されれ。

図2：インクジェット法で形成したたパターンパターンの违い

画像：図3：300ppi 1t1c tftアレイ（sd电气极成后）
図3：300ppi 1t1c tftアレイ（SD电气形成后）

レーザー技术による高机催化剂

さらに，电影间をを接続するビアををレーザーアブレーションアブレーションによりによりしししとをを同にに込み込みとををににするするを回路発発しましましするするの回路回路発しましたたたトランジスタ回路作爱作用工程にレーザー开放の1工程工程に追しの，微细微细パターンをを维持した，トランジスタ间を接続してより高机なトランジスタ回路を形するに成功しまし（図4参照）。

画像：図4：150ppi 2t1c tftアレイ（SD电气极成后）
図4：150ppi 2t1c tftアレイ（SD电气形成后）

表示ディスプレイの展开

先に示したフィルムフィルム基于に印刷で作用制をトランジスタと表示表示子を张り合成ことで，薄く軽く高精度なを実现したた。铁线）をを法で作用制たディスプレイて，世界最高レベル解像度（200ppi =每英寸）を达成してます。

画像：図5：フィルム上に形成し高精度（200ppi）ディスプレイ
図5：フィルム上に形成し高精度（200ppi）ディスプレイ

技术の先进性

电影圧动作トランジスタ回路，一个itつのキャパシタ一つ（ITIC）がが状に并んだトランジスタを成する全ての（电阻，繁体，绝绝膜）解像度（300ppi =每英寸像素，TFTピッチ：80um）を达成してい。また，电阻动作トランジスタ回路として，一つのキャパシタとつのの（2t1c）がアレイ状に并んだををアレイと技术で作用制，世界最高レベル解像度（150ppimtftピッチ：169um）ををしてい。